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三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF 3 +5H 2 O=2NO+HNO 3 +9
三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF 3 +5H 2 O=2NO+HNO 3 +9
2025-04-14 21:06:01
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